卓知科儀(北京)技術有限公司
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レーザミラー
フェムト秒レーザーミラーの設計目標はフェムト秒レーザーミラーにおいて動作波長範囲が広く、位相が周波数に応じて線形に変化する特徴(群遅延分散(GDD))を実現することである。コーティングは単一の層媒体であり、動作波長に位相シフト領域がない。高反射率のミラーはより高い反射を示すことが多く、同じ誘電体コー
製品の詳細


フェムト秒レーザーミラーの設計目標はフェムト秒レーザーミラーにおいて動作波長範囲が広く、位相が周波数に応じて線形に変化する特徴(群遅延分散(GDD))を実現することである。コーティングは単一の層媒体であり、動作波長に位相シフト領域がない。高反射率のミラーはより高い反射を示すことが多く、同じ誘電体コーティングでは、p分極よりもs分極の動作領域とパルス歪みが小さい。

私たちの標準ミラーは基本的なチタン:サファイアとYb:KGWまたはKYWレーザに適用して、それの2倍周波数、3倍周波数または4倍周波数。


マトリックス

ざいりょう

UV 等級溶融石英又はBK 7ガラス

S1 表面平坦度

633nmの場合λ/ 10

S1 ひょうめんしつりょう

20 10 scratch &dig(MIL-PRF-13830B)

S2 ひょうめんしつりょう

バフ仕上げ

直径公差

+0.00mm-0.12 mm

厚さ公差

±0.25mm

Wedge

< 3 min

ひっくり返すかく

0.3mm at45°typical


コーティング


プロセス

電子ビーム多層誘電体またはイオンビームスパッタリング

付着力と耐久性

と一致MIL-C-675A.実験室溶媒に不溶

スルーホール径

中心直径を超える 85%

コーティング

硬質誘電体の高反射率R>99.5

にゅうしゃかく

0or45±3°

平均偏光に特化した設計

R=(Rs+Rp)/2

レーザ損傷閾値

>100mJ/cm2, 50fsecpulse, 50Hz,

800nmtypical

コーティング表面平坦度

透明孔径下633nmにおけるλ/ 10



低GDD超高速ミラー

基材:BK7 grade A

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LOW GDD ULTRAFAST MIRRORS

基材:UV grade Fused Silica

大エネルギーレーザのUVバンドへの応用を推薦する.

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